ଉତ୍ତାପ ଚିକିତ୍ସା ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ସାଧାରଣତଃ ବ୍ୟବହୃତ ଦଶଟି କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି ଅଛି, ଯେଉଁଥିରେ ଏକକ ମଧ୍ୟମ (ପାଣି, ତେଲ, ବାୟୁ) କ୍ୱଞ୍ଚିଂ; ଦ୍ୱୈତ ମଧ୍ୟମ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ; ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ; Ms ପଏଣ୍ଟ ତଳେ ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି; ବେନାଇଟ୍ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି; ଯୌଗିକ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି; ପ୍ରିକୁଲିଂ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି; ବିଳମ୍ବିତ କୁଲିଂ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି; ସେଲ୍ଫ-ଟେମ୍ପରିଂ ପଦ୍ଧତି; ସ୍ପ୍ରେ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି, ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ।
୧. ଏକକ ମାଧ୍ୟମ (ପାଣି, ତେଲ, ବାୟୁ) ଶମନ
ଏକକ-ମଧ୍ୟମ (ପାଣି, ତେଲ, ବାୟୁ) କ୍ୱଞ୍ଚିଂ: କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗରମ ହୋଇଥିବା ୱର୍କପିସ୍ କୁ ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଥଣ୍ଡା କରିବା ପାଇଁ ଏକ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମରେ ପରିଣତ କରାଯାଏ। ଏହା ସବୁଠାରୁ ସରଳ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି ଏବଂ ପ୍ରାୟତଃ ସରଳ ଆକାର ସହିତ କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ମିଥ୍ୟା ଇସ୍ପାତ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମ ଅଂଶର ତାପ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ଗୁଣାଙ୍କ, କଠିନତା, ଆକାର, ଆକୃତି ଇତ୍ୟାଦି ଅନୁସାରେ ଚୟନ କରାଯାଏ।
୨. ଡବଲ ମଧ୍ୟମ କ୍ୱିନ୍ଚିଂ
ଦ୍ୱୈତ-ମଧ୍ୟମ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ: କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ତାପମାତ୍ରାରେ ଗରମ ହୋଇଥିବା ୱର୍କପିସ୍କୁ ପ୍ରଥମେ ଏକ ଦୃଢ଼ ଥଣ୍ଡାକରଣ କ୍ଷମତା ସହିତ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମରେ Ms ପଏଣ୍ଟ୍ ନିକଟରେ ଥଣ୍ଡା କରାଯାଏ, ଏବଂ ତା’ପରେ ବିଭିନ୍ନ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ଶୀତଳତାପ ତାପମାତ୍ରା ପରିସର ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ପହଞ୍ଚିବା ପାଇଁ ଏବଂ ଅପେକ୍ଷାକୃତ ଭାବରେ ଆଦର୍ଶ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ଶୀତଳତା ହାର ପାଇବା ପାଇଁ କୋଠରୀ ତାପମାତ୍ରାକୁ ଥଣ୍ଡା କରିବା ପାଇଁ ଏକ ଧୀର-ଥଣ୍ଡାକରଣ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ କରାଯାଏ। ଏହି ପଦ୍ଧତି ପ୍ରାୟତଃ ଜଟିଳ ଆକାର କିମ୍ବା ଉଚ୍ଚ-କାର୍ବନ ଷ୍ଟିଲ୍ ଏବଂ ମିଶ୍ରଧାତୁ ଷ୍ଟିଲ୍ରେ ତିଆରି ବଡ଼ ୱର୍କପିସ୍ ସହିତ ଅଂଶ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। କାର୍ବନ ଟୁଲ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ମଧ୍ୟ ପ୍ରାୟତଃ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ସାଧାରଣତଃ ବ୍ୟବହୃତ ଥଣ୍ଡାକରଣ ମାଧ୍ୟମ ମଧ୍ୟରେ ଜଳ-ତେଲ, ଜଳ-ନାଇଟ୍ରେଟ୍, ଜଳ-ବାୟୁ ଏବଂ ତୈଳ-ବାୟୁ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ। ସାଧାରଣତଃ, ଜଳକୁ ଦ୍ରୁତ ଥଣ୍ଡାକରଣ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏବଂ ତୈଳ କିମ୍ବା ବାୟୁକୁ ଧୀର ଥଣ୍ଡାକରଣ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ମାଧ୍ୟମ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ବାୟୁ କ୍ୱଚିତ୍ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
3. ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱେନଚିଂ
ମାର୍ଟେନସାଇଟିକ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱେନଚିଂ: ଇସ୍ପାତକୁ ଅଷ୍ଟେନିଟାଇଜ୍ କରାଯାଏ, ଏବଂ ତା’ପରେ ଇସ୍ପାତର ଉପର ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ବିନ୍ଦୁଠାରୁ ଟିକିଏ ଅଧିକ କିମ୍ବା ଟିକିଏ କମ୍ ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ଏକ ତରଳ ମାଧ୍ୟମ (ଲୁଣ ସ୍ନାନ କିମ୍ବା କ୍ଷାର ସ୍ନାନ)ରେ ବୁଡ଼ାଯାଏ, ଏବଂ ଇସ୍ପାତ ଅଂଶଗୁଡ଼ିକର ଭିତର ଏବଂ ବାହ୍ୟ ପୃଷ୍ଠ ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଉପଯୁକ୍ତ ସମୟ ପାଇଁ ରଖାଯାଏ। ସ୍ତରଗୁଡ଼ିକ ମଧ୍ୟମ ତାପମାତ୍ରାରେ ପହଞ୍ଚିବା ପରେ, ସେଗୁଡ଼ିକୁ ବାୟୁ ଥଣ୍ଡା କରିବା ପାଇଁ ବାହାରକୁ ନିଆଯାଇଥାଏ, ଏବଂ କ୍ୱେନଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ସମୟରେ ସୁପରକୁଲଡ୍ ଅଷ୍ଟେନାଇଟ୍ ଧୀରେ ଧୀରେ ମାର୍ଟେନସାଇଟରେ ରୂପାନ୍ତରିତ ହୁଏ। ଏହା ସାଧାରଣତଃ ଜଟିଳ ଆକାର ଏବଂ କଠୋର ବିକୃତି ଆବଶ୍ୟକତା ସହିତ ଛୋଟ ୱର୍କପିସ୍ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ। ଏହି ପଦ୍ଧତି ସାଧାରଣତଃ ଉଚ୍ଚ-ଗତି ଇସ୍ପାତ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ମିଶ୍ରୟ ଇସ୍ପାତ ଉପକରଣ ଏବଂ ଛାଞ୍ଚଗୁଡ଼ିକୁ କ୍ୱେନଚିଂ ପାଇଁ ମଧ୍ୟ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
୪. Ms ପଏଣ୍ଟ ତଳେ ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପଦ୍ଧତି
Ms ପଏଣ୍ଟ ତଳେ ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପଦ୍ଧତି: ଯେତେବେଳେ ବାଥ ତାପମାତ୍ରା ୱର୍କପିସ୍ ଷ୍ଟିଲର Ms ଠାରୁ କମ୍ ଏବଂ Mf ଠାରୁ ଅଧିକ ଥାଏ, ସେତେବେଳେ ବାଥରେ ୱର୍କପିସ୍ ଶୀଘ୍ର ଥଣ୍ଡା ହୁଏ, ଏବଂ ଆକାର ବଡ଼ ହେଲେ ମଧ୍ୟ ଗ୍ରେଡେଡ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପରି ସମାନ ଫଳାଫଳ ମିଳିପାରିବ। ପ୍ରାୟତଃ କମ୍ କଠିନତା ସହିତ ବଡ଼ ଷ୍ଟିଲ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
୫. ବେନାଇଟ୍ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି
ବେନାଇଟ୍ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱେନିଂ ପଦ୍ଧତି: ୱର୍କପିସ୍କୁ ଇସ୍ପାତ ଏବଂ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ର କମ ବେନାଇଟ୍ ତାପମାତ୍ରା ସହିତ ଏକ ବାଥରେ ନିଭାଇ ଦିଆଯାଏ, ଯାହା ଦ୍ଵାରା ନିମ୍ନ ବେନାଇଟ୍ ରୂପାନ୍ତର ଘଟେ, ଏବଂ ସାଧାରଣତଃ 30 ରୁ 60 ମିନିଟ୍ ପାଇଁ ବାଥରେ ରଖାଯାଏ। ବେନାଇଟ୍ ଅଷ୍ଟେମ୍ପରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ତିନୋଟି ମୁଖ୍ୟ ପଦକ୍ଷେପ ଅଛି: ① ଅଷ୍ଟେନାଇଟାଇଜିଂ ଚିକିତ୍ସା; ② ଅଷ୍ଟେନାଇଟାଇଜିଂ ପରବର୍ତ୍ତୀ ଶୀତଳକରଣ ଚିକିତ୍ସା; ③ ବେନାଇଟ୍ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ ଚିକିତ୍ସା; ସାଧାରଣତଃ ମିଶେଇ ଇସ୍ପାତ, ଉଚ୍ଚ କାର୍ବନ ଇସ୍ପାତ ଛୋଟ ଆକାରର ଅଂଶ ଏବଂ ନମନୀୟ ଲୁହା କାଷ୍ଟିଂରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
୬. ଯୌଗିକ କ୍ୱିଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି
କମ୍ପାଉଣ୍ଡ କ୍ୱେନିଂ ପଦ୍ଧତି: ପ୍ରଥମେ 10% ରୁ 30% ଆୟତନ ଅଂଶ ସହିତ ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ପାଇବା ପାଇଁ ୱର୍କପିସ୍ କୁ Ms ତଳେ କ୍ୱେନ କରନ୍ତୁ, ଏବଂ ତା'ପରେ ବଡ କ୍ରସ୍-ସେକ୍ସନ୍ ୱର୍କପିସ୍ ପାଇଁ ମାର୍ଟେନସାଇଟ୍ ଏବଂ ୱେନାଇଟ୍ ଗଠନ ପାଇବା ପାଇଁ ନିମ୍ନ ବେନାଇଟ୍ ଜୋନରେ ଆଇସୋଥର୍ମ କରନ୍ତୁ। ଏହା ସାଧାରଣତଃ ମିଲୟ ଟୁଲ୍ ଷ୍ଟିଲ୍ ୱର୍କପିସ୍ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଏ।
୭. ପ୍ରିକୁଲିଂ ଏବଂ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପଦ୍ଧତି
ପ୍ରି-ଥଣ୍ଡା କରିବା ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ପଦ୍ଧତି: ଏହାକୁ ହିଟିଂ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ କ୍ୱେନଚିଂ ମଧ୍ୟ କୁହାଯାଏ, ଅଂଶଗୁଡ଼ିକୁ ପ୍ରଥମେ କମ୍ ତାପମାତ୍ରା (Ms ଠାରୁ ଅଧିକ) ଥିବା ବାଥରେ ଥଣ୍ଡା କରାଯାଏ, ଏବଂ ତା'ପରେ ଅଷ୍ଟେନାଇଟ୍କୁ ଆଇସୋଥର୍ମାଲ୍ ରୂପାନ୍ତରିତ କରିବା ପାଇଁ ଅଧିକ ତାପମାତ୍ରା ଥିବା ବାଥକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ କରାଯାଏ। ଏହା ଦୁର୍ବଳ କଠିନତା କିମ୍ବା ବଡ଼ ୱର୍କପିସ୍ ସହିତ ଷ୍ଟିଲ୍ ଅଂଶ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ଯାହା ଅଷ୍ଟେମ୍ପର୍ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ।
୮. ବିଳମ୍ବରେ ଶୀତଳୀକରଣ ଏବଂ ନିବାରଣ ପଦ୍ଧତି
ବିଳମ୍ବିତ ଶୀତଳୀକରଣ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି: ଅଂଶଗୁଡ଼ିକୁ ପ୍ରଥମେ ବାୟୁ, ଗରମ ପାଣି କିମ୍ବା ଲୁଣ ସ୍ନାନରେ Ar3 କିମ୍ବା Ar1 ଠାରୁ ଟିକିଏ ଅଧିକ ତାପମାତ୍ରାରେ ପ୍ରି-ଥଣ୍ଡା କରାଯାଏ, ଏବଂ ତା'ପରେ ଏକକ-ମଧ୍ୟମ କ୍ୱେଞ୍ଚିଂ କରାଯାଏ। ଏହା ପ୍ରାୟତଃ ଜଟିଳ ଆକାର ଏବଂ ବିଭିନ୍ନ ଅଂଶରେ ବ୍ୟାପକ ଭାବରେ ଭିନ୍ନ ଘନତା ଥିବା ଅଂଶଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ ଏବଂ ଛୋଟ ବିକୃତି ଆବଶ୍ୟକ କରେ।
୯. ନିଦ୍ରାକରଣ ଏବଂ ଆତ୍ମ-ସଂଯମ ପଦ୍ଧତି
କଭେଞ୍ଚିଂ ଏବଂ ସ୍ୱୟଂ-ତେଜୀକରଣ ପଦ୍ଧତି: ପ୍ରକ୍ରିୟାକରଣ ହେବାକୁ ଥିବା ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ୱର୍କପିସ୍ ଗରମ କରାଯାଏ, କିନ୍ତୁ କଭେଞ୍ଚିଂ ସମୟରେ, କେବଳ କଠିନ କରିବାକୁ ଥିବା ଅଂଶ (ସାଧାରଣତଃ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷମ ଅଂଶ) କୁଭେଞ୍ଚିଂ ତରଳରେ ବୁଡ଼ାଇ ଥଣ୍ଡା କରାଯାଏ। ଯେତେବେଳେ ଅବୁଝା ଅଂଶର ଅଗ୍ନି ରଙ୍ଗ ଅଦୃଶ୍ୟ ହୋଇଯାଏ, ତୁରନ୍ତ ଏହାକୁ ବାୟୁରେ ବାହାର କରିଦିଅ। ମଧ୍ୟମ ଥଣ୍ଡା କଭେଞ୍ଚିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା। କଭେଞ୍ଚିଂ ଏବଂ ସ୍ୱୟଂ-ତେଜୀକରଣ ପଦ୍ଧତି ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଥଣ୍ଡା ହୋଇନଥିବା କୋରରୁ ଉତ୍ତାପକୁ ପୃଷ୍ଠକୁ ସ୍ଥାନାନ୍ତରିତ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରେ ଯାହା ପୃଷ୍ଠକୁ ତେଜୀକରଣ କରେ। ସାଧାରଣତଃ ଛେନି, ପଞ୍ଚ, ହାତୁଡ଼ି ଇତ୍ୟାଦି ପ୍ରଭାବ ସହ୍ୟ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ଉପକରଣ।
୧୦. ସ୍ପ୍ରେ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି
ସ୍ପ୍ରେ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି: ଏକ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି ଯେଉଁଥିରେ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ର ଉପରେ ପାଣି ସ୍ପ୍ରେ କରାଯାଏ। ଆବଶ୍ୟକୀୟ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ଗଭୀରତା ଉପରେ ନିର୍ଭର କରି ଜଳ ପ୍ରବାହ ବଡ଼ କିମ୍ବା ଛୋଟ ହୋଇପାରେ। ସ୍ପ୍ରେ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପଦ୍ଧତି କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରର ପୃଷ୍ଠରେ ଏକ ବାଷ୍ପ ଫିଲ୍ମ ଗଠନ କରେ ନାହିଁ, ଯାହା ଫଳରେ ଜଳ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ଅପେକ୍ଷା ଗଭୀର କଠିନ ସ୍ତର ସୁନିଶ୍ଚିତ ହୁଏ। ମୁଖ୍ୟତଃ ସ୍ଥାନୀୟ ପୃଷ୍ଠ କ୍ୱଞ୍ଚିଂ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ।
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଏପ୍ରିଲ-୦୮-୨୦୨୪